Disse filtre anbefales til organiske, uorganiske, kemiske og ammoniakbaserede gasser i industrielle applikationer samt til støv. Designet af GVS's tredje generations kul- og støvfilter er baseret på to patenterede teknologier: 1. "Indkapslingen" af HESPA filtreringsmediet muliggør et buet og diskret design og optimerer modstanden af det plisserede støvfilterelement. 2. Brugen af gradueret kul forlænges gasmolekylernes vej gennem et mere adsorberende filtreringsmateriale og maksimerer derfor gaspræstationerne i forhold til konventionelle filtre. Resultatet er et højtydende filter, hvis størrelse og vægt er 30 % mindre end et gennemsnitligt filter. Fuldmasker FFM223K, Elipse masker SPR312K (P/M), SPR223K (M/G), Integra masker IHM213K (P/M), IHM223K (M/L).