Nano-X MRC UV-filteret fra K&F CONCEPT er specielt designet til FujiFilm X100-serien og tilbyder enestående lysgennemgang og refleksbeskyttelse. Med en diameter på 52 mm og en vægt på kun 0,1 kg er det let og smidigt at håndtere. Det japanske optiske glas med 28 lag giver skarpe billeder og naturlige farver, mens det vandafvisende og ridsebestandige materiale beskytter objektivet under forskellige forhold. Det magnetiske monteringssystem gør det nemt at sætte på og tage af filteret, og det medfølgende opbevaringsetui gør det nemt at tage med på fototure. Dette filter er en fremragende løsning for fotografer, der ønsker at beskytte deres objektiver og forbedre billedkvaliteten.